EFFECTIVE METHODS OF SYNTHESIS AND OPTIMIZATION OF A HOLOGRAPHIC MASK

V. V. Chernik; Черник В. В.

doi:10.31857/S2686740023050036

ЭФФЕКТИВНЫЕ МЕТОДЫ СИНТЕЗА И ОПТИМИЗАЦИИ ГОЛОГРАММНОЙ МАСКИ

Авторы: Черник В.В.¹
Учреждения:
1. Институт проблем механики им. А.Ю. Ишлинского Российской академии наук
Выпуск: Том 512, № 1 (2023)
Страницы: 44-50
Раздел: ФИЗИКА
URL: https://vietnamjournal.ru/2686-7400/article/view/651840
DOI: https://doi.org/10.31857/S2686740023050036
EDN: https://elibrary.ru/OWHLPJ
ID: 651840

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ
Доступ закрыт

Доступ предоставлен
Доступ закрыт

Доступ платный или только для подписчиков

Аннотация
Об авторах
Список литературы
Дополнительные файлы
Статистика

Аннотация

Описаны эффективные алгоритмы синтеза голографических масок на основе БПФ со сложностью O(NlnN), где N – количество элементов изображаемого объекта. Разработан и внедрен масштабируемый программный комплекс, позволяющий синтезировать голограммные маски для различных приложений литографии, включая производство МЭМС, MOEMС и микросхем высокого класса. Предложены решения проблем оптимизации качества голографических изображений и повышения дифракционной эффективности.

Ключевые слова

дифракция, компьютерно-синтезированные голограммы, оптимизация, фотолитография

Об авторах

В. В. Черник

Институт проблем механики им. А.Ю. Ишлинского Российской академии наук

Автор, ответственный за переписку.
Email: gungho424@gmail.com
Россия, Москва

Список литературы

Борисов М.В., Боровиков В.А., Гавриков А.А., Князьков Д.Ю., Раховский В.И., Челюбеев Д.А., Шамаев А.С. Методы создания и коррекции качества голографических изображений геометрических объектов с элементами субволновых размеров // ДАН. 2010. Т. 434. № 3. С. 332–336.
Rakhovsky V., Knyazkov D., Shamaev A., Chernik V., Gavrikov A., Chelyubeev D., Mikheev P., Borisov M. // Proc. European Mask and Lithography Conference. SPIE. 2012. V. 8352. 83520P.
Черник В.В. // Журнал Радиоэлектроники. 2017. № 1. С. 1–20.
Gabor D.A. // Nature. 1948. № 161. P. 777–778.
Колфилд Г. Оптическая голография. М.: Мир, 1982. 376 с.
Mack C.A. Fundamental Principles of Optical Lithography: The Science of Microfabrication.: John Wiley & Sons, 2007. 417 p.
Басс Ф.Г., Фукс И.М. Рассеяние волн на статистически неровной поверхности. М.: Наука, 1972. 424 с.
Черник В.В. // Труды VI международной конференции “Параллельные вычисления и задачи управления”. PACO’2012. Т. II. 2012.
Михеев П.А. // Вестн. Моск. ун-та. Сер. 15: Вычислительная математика и кибернетика. 2014. Т. 1. С. 15–22.
Borisov M., Chernik V., Merkushov L., Shamaev A., Rakhovski V., Chelubeev D. // Proc. SPIE 11324. Novel Patterning Technologies for Semiconductors. MEMS/NEMS and MOEMS. 2020. XXXIV. 113241J (2020) https://doi.org/10.1117/12.2552013
Borisov M., Chernik V., Shamaev A., Rakhovski V., Chelubeev D. // Proc. SPIE 11324. Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS. 2020. XXXIV; 1132417 (2020). https://doi.org/10.1117/12.2551936