Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
ISSN 1028-0960 (Print)
ISSN 3034-5731 (Online)
Меню
Архив
Главная
О журнале
Редакция
Редакционная политика
Правила для авторов
О журнале
Выпуски
Поиск
Текущий выпуск
Ретрагированные статьи
Архив
Контакты
Подписка
Все журналы
Способы оплаты
Пользователь
Имя пользователя
Пароль
Запомнить меня
Забыли пароль?
Регистрация
Уведомления
Посмотреть
Подписаться
Подписка
Войти в систему, чтобы проверить подписку
Поиск
Поиск
Область поиска
Все
Авторы
Название
Резюме
Термины
Полный текст
Листать
выпуски
По автору
по заглавиям
по разделам
другие журналы
Категории
Ключевые слова
атомно-силовая микроскопия
ионная имплантация
компьютерное моделирование
кремний
магнетронное распыление
метод Монте-Карло
микроструктура
морфология поверхности
наночастицы
облучение
оксид цинка
поверхность
растровая электронная микроскопия
рентгеновская дифракция
рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
рентгеноструктурный анализ
рентгенофазовый анализ
синхротронное излучение
структура
тонкие пленки
фазовый состав
×
Способы оплаты
Пользователь
Имя пользователя
Пароль
Запомнить меня
Забыли пароль?
Регистрация
Уведомления
Посмотреть
Подписаться
Подписка
Войти в систему, чтобы проверить подписку
Поиск
Поиск
Область поиска
Все
Авторы
Название
Резюме
Термины
Полный текст
Листать
выпуски
По автору
по заглавиям
по разделам
другие журналы
Категории
Ключевые слова
атомно-силовая микроскопия
ионная имплантация
компьютерное моделирование
кремний
магнетронное распыление
метод Монте-Карло
микроструктура
морфология поверхности
наночастицы
облучение
оксид цинка
поверхность
растровая электронная микроскопия
рентгеновская дифракция
рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
рентгеноструктурный анализ
рентгенофазовый анализ
синхротронное излучение
структура
тонкие пленки
фазовый состав
Главная
>
Поиск
>
Информация об авторе
Информация об авторе
Privezentsev, V. V.
Выпуск
Раздел
Название
Файл
№ 3 (2023)
Статьи
Формирование нанокластеров в кристаллическом кварце, имплантированном цинком
№ 4 (2024)
Статьи
Исследование пленок SiO
2
, имплантированных ионами
64
Zn
+
и окисленных при повышенных температурах
№ 11 (2023)
Статьи
Формирование Zn-содержащих кластеров в имплантированной пленке Si
3
N
4
/Si
№ 12 (2024)
Статьи
Исследование пленки нитрида кремния, в которую имплантированы ионы цинка
№ 4 (2025)
Статьи
Исследование пленок SiO
2
, полученных методом PECVD и легированных ионами Zn
TOP