Author Details
Пивоваренок, С.
| Issue | Section | Title | File |
| Vol 52, No 1 (2023) | DIAGNOSTICS | Controlling Silicon Etching Parameters in RF CHF3 Plasma by Optical Emission Spectroscopy | |
| Vol 52, No 1 (2023) | DIAGNOSTICS | Электрофизические характеристики и эмиссионные спектры плазмы тетрафторметана |