Моделирование процессов, инициируемых газовым разрядом постоянного тока атмосферного давления в водном растворе нитрата никеля
- Авторы: Шутов Д.А.1, Иванов А.Н.1, Игнатьева П.А.1, Рыбкин В.В.1
-
Учреждения:
- Ивановский государственный химико-технологический университет
- Выпуск: Том 50, № 7 (2024)
- Страницы: 805-818
- Раздел: НИЗКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ПЛАЗМА
- URL: https://vietnamjournal.ru/0367-2921/article/view/683720
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0367292124070101
- EDN: https://elibrary.ru/OIKEWD
- ID: 683720
Цитировать
Полный текст
Аннотация
Предлагается 0–D-модель, описывающая процессы, протекающие в системе разряд постоянного тока атмосферного давления – водный раствор нитрата никеля. Модель представлена в виде двух связанных подсистем, одна из которых газовый разряд, а другая раствор. Характеристики плазмы разряда определялись путем совместного решения уравнения Больцмана для электронов, уравнений колебательной кинетики для основных состояний молекул N2, O2, NO, H2 и H2O, а также уравнений химической кинетики (328 реакций, 34 компонента). При решении использовались экспериментально найденные величины приведенных напряженностей электрических полей, колебательные и газовые температуры. Кинетика процессов в растворе включала 121 реакцию и 34 компонента. Результаты расчетов согласуются с экспериментом по колебательным температурам молекул N2(X) и кинетике расходования ионов никеля Ni2+ в растворе и рН раствора. Определены степени конверсии ионов Ni2+ и энергетические выходы конверсии. Выявлены механизмы реакций, которые определяют концентрации основных компонентов в растворе.
Ключевые слова
Об авторах
Д. А. Шутов
Ивановский государственный химико-технологический университет
Автор, ответственный за переписку.
Email: shutov@isuct.ru
Россия, Иваново
А. Н. Иванов
Ивановский государственный химико-технологический университет
Email: ivanovan@isuct.ru
Россия, Иваново
П. А. Игнатьева
Ивановский государственный химико-технологический университет
Email: poliv3@mail.ru
Россия, Иваново
В. В. Рыбкин
Ивановский государственный химико-технологический университет
Email: rybkin@isuct.ru
Россия, Иваново
Список литературы
- Bruggeman P.J., Kushner M.J., Locke B.R., Gardeniers J.D.E., Graham W.G., Graves D.B., Hofman-Caris R.C., Maric D., Reid J.P., Ceriani E., Fernandez Riva D., Foster J.E., Garrick S.C., Gorbanev Y., Hamaguchi S., Iza F., Jablonowski H., Klimova E., Kolb J., Krcma F., Lukes P., Machala Z., Marinov I., Mariotti D., Mededovic Thagard S., Minakata D., Neyts E.C., Pawlat J., Petrovic Z.Lj., Pflieger R., Reuter S., Schram D.C., Schroter S., Shiraiwa M., Tarabova B., Tsai P.A., Verlet J.R.R., von Woedtke T., Wilson K.R., Yasui K., Zvereva G. // Plasma Sources Sci. Technol. 2016. V. 25. P. 053002. https://doi.org/10.1088/0963-0252/25/5/053002
- Kovacević V. V., Sretenović G. B., Obradović B. M., Kuraica M. M. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2022. V. 55. P. 473002. doi: 10.1088/1361-6463/ac8a56
- Grinevich V.I., Kvitkova E.Y., Plastinina N.A., Rybkin V.V. // Plasma Chem. Plasma Process. 2011. V.31. P. 573. doi: 10.1007/S11090-010-9256-1
- Jiang B., Zheng J., Qiu S., Wu M., Zhang Q., Yan Z., Xue Q. // Chem. Eng. J. 2014. V. 236. P. 348. doi: 10.1016/j.cej.2013.09.090
- Foster J. E. // Phys. Plasmas. 2017. V. 24. P. 055501. https://doi.org/10.1063/1.4977921
- Chen Q., Li J., Li Y. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2015. V. 48. P. 424005. doi: 10.1088/0022-3727/48/42/424005
- Saito G., Akiyama T. // J. Nanomater. 2015. V.16. P. 299. doi: 10.1155/2015/123696
- Horikoshi S., Serponec N. // RSC Adv. 2017. V. 7 . P. 47196. doi: https://doi.org/10.1039/C7RA09600C
- Misra N.N. // Trends Food Sci. Technol. 2015. V. 45. P. 229. doi: 10.1016/j.tifs.2015.06.005
- Mu R., Liu Y., Li R., Xue G., Ognier S. // Chem. Eng. J. 2016. V. 296. doi: 10.1016/j.cej.2016.03.054
- Puač N., Gherardi M., Shiratani M. // Plasma Process. Polym. 2018. V. 15. P. 1700174
- Jablonowski H., von Woedtke T. // Clin. Plasma Med. 2015. V. 3 P. 42. doi: 10.1016/J.CPME.2015.11.003
- Friedman G., Friedman G., Gutsol A., Shekhter A.B., Vasilets V.N., Fridman A. // Plasma Process. Polym. 2008. V. 5. P. 503. doi: 10.1002/ppap.200700154
- Liu Z.C., Liu D.X., Chen C., Li D., Yang A.J., Rong M.Z., Chen H.L., Kong M.G. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2015.V. 48. P. 495201. doi: 10.1088/0022-3727/48/49/495201
- Liu Z.C., Liu D.X., Luo S.T., Wang W.T., Liu Z.J., Yang A. J., Rong Z., Chen H.L., Kong M.G. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2019. V. 52. P. 415201. https://doi.org/10.1088/1361-6463/ab2f07
- Sakiyama Y., Graves D.B., Chang H.W., Shimizu T., Morfill G.E. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2012. V. 45. P. 425201. doi: 10.1088/0022-3727/45/42/425201
- Liu Z.C., Lin D.X., Rong M.Z., Chen H.L., Kong M.G. // Plasma Process. Polym. 2017. V.14. P. 1600113. doi: 10.1002/ppap.201600113
- Du J., Liu Z., Bai C., Li L., Zhao Y., Wang L., Pan J. // Europ. Phys. J. D. 2018. V. 72. P. 179. https://doi.org/10.1140/epjd/e2018-90138-3
- Lietz A.M., Kushner M.J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2016. V. 49. P. 425204. doi: 10.1088/0022-3727/49/42/425204
- Chen C., Liu D.X., Liu Z.C., Yang A.J, Chen H.L., Shama G., Kong M.G. // Plasma Chem. Plasma Process. 2014. V. 34. P. 403. doi: 10.1007/s11090-014-954
- Norberg S.A., Guy M., Parsey G.M., Lietz A.M. , Johnsen E., Kushner M.J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2019. V. 52. P. 015201. doi: 10.1088/1361-6463/aae41e
- Verlackt C., Van Boxem W., Bogaerts A. // Phys. Chem. Chem. Phys. 2018. V. 20. P. 6845. doi: 10.1039/c7cp07593f
- Heirman P., Van Boxem W., Bogaerts A. // Phys Chem. Chem. Phys. 2019. V. 21. P. 12881. doi: 10.1039/c9cp00647h
- Shutov D.A., Batova N.A., Smirnova K.V., Ivanov A.N., Rybkin V.V. // J Phys D: Appl Phys. 2022. V. 55. P. 345206. https://doi.org/10.1088/1361-6463/ac74f8
- Shutov D.A., Smirnova K.V., Ivanov A.N., Rybkin V.V. // Plasma Chem. Plasma Process. 2023. V. 43. P. 577. https://doi.org/10.1007/s11090-023-10322-1
- Zheng Y. ,Wang L., Bruggeman P. // J. Vac. Sci. Technol. 2020. V. A38. P. 063005. doi: 10.1116/6.0000575
- Guschin A.A., Grinevich V.I., Kvitkova E.Yu., Gusev G.I., Shutov D.A., Ivanov A.N., Manukyan A.S., V.V. Rybkin V.V. // ChemChemTech [Izv. Vyssh. Uchebn. Zaved. Khim. Khim. Tekhnol.]. 2023. V. 65. P. 121. doi: 10.6060/ivkkt.20236607.6835j
- Smirnova K.V., Izvekova A.A., Shutov D.A., Ivanov.A.N., Manukyan A.S., Rybkin V.V. // ChemChemTech. 2022. V. 65. P. 112. doi: 10.6060/ivkkt.20226512.6743
- Titov V.A., Rybkin V.V., Maximov A.I., Choi H-S. // Plasma Chem. Plasma Process. 2005. V. 25. P. 503. doi: 10.1007/s11090-005-4996-z
- Titov V.A., Rybkin V.V., Smirnov S.A., Kulentsan A.L., Choi H-S. // Plasma Chem. Plasma Process. 2006. V. 26. P. 543. doi: 10.1007/s11090-006-9014-6
- Bobkova E.S., Smirnov S.A., Zalipaeva Ya.V., Rybkin V.V. // Plasma Chem. Plasma Process. 2014. V. 34. P. 721. doi: 10.1007/s11090-014-9539-z
- Smirnov S.A., Shutov D.A., Bobkova E.S., Rybkin V.V. // Plasma Chem. Plasma Process. 2015. V. 35. P. 639. doi: 10.1007/s11090-015-9626-9
- Shutov D.A., Smirnov S.A., Bobkova E.S., Rybkin V.V. // Plasma Chem. Plasma Process. 2015. V. 35. P. 107. doi: 10.1007/s11090-014-9596-3
- Shutov D.A., Smirnov S.A., Rybkin V.V. // High Energy Chem. 2014. V.48. P. 502. doi: 10.1134/S0018143914060071
- Bobkova E.S., Rybkin V.V. // Plasma Chem. Plasma Process. 2015. V. 35. P. 133. doi: 10.1007/s11090-014-9583-8
- Herrmann H., Ervens B., Jacobi H.W., Wolke R., Nowacki P., Zellner R. // J. Atmos. Chem. 2000. V. 36. P.231. doi: 10.1002/bbpc.19920960347
- Pastina B., LaVerne J.A. // J. Phys. Chem. A. 2001. V. 40. P. 9316. doi: 10.1021/jp012245j
- Van Gils C.A.J., Hofmann S., Boekema B.K.H.L., Brandenburg R., Bruggeman P.J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2013. V. 46. P. 175203. doi: 10.1088/0022-3727/46/17/175203
- Buehler R.E., Staehelin J., Hoigne J. // J. Phys. Chem. 1984. V. 88. P. 2560. doi: 10.1021/j150656a026
- Tomiyasu H., Fukutomi H., Gordon G. // Inorg. Chem. 1985. V. 24. P. 2962. doi: 10.1021/ic00213a018
- Pandis S.N., Seinfeld J.H. // J. Geophys. Res. 1989. V. 94. P. 1105. doi: 10.1029/JD094iD01p01105
- Shibata T., Nishiyama H. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2014. V. 47. P. 105203. doi: 10.1088/0022-3727/47/10/10520
- Loegager T., Sehested K. // J. Phys. Chem. 1993. V. 97. P. 10047. doi: 10.1088/0022-3727/47/10/10520
- Field R.J., Noyes R.M., Postlethwaite D. // J. Phys. Chem. 1976. V. 80. P. 223. doi: 10.1021/j100544a002
- Rabani J., Matheson M.S. The pulse radiolysis of aqueous solutions of potassium ferrocyanide // J. Phys. Chem. 1966. V. 70. P. 761. doi: 10.1021/j100875a025
- Sehested K., Holcman J., Bjergbakke E., Hart E.J. // J. Phys. Chem. 1982. V. 86. P.2066. doi: 10.1021/j100208a031
- Goldstein S., Squadrito G.L., Pryor W.A., Czapski G. // Free Radic. Biol. Med. 1996. V. 21. P. 965. doi: 10.1016/S0891-5849(96)00280-8
- Halpern J., Rabani J. // J. Am. Chem. Soc. 1966. V. 88. P. 699. doi: 10.1021/ja00956a015
- Gils C.A.J., Hofmann S., Boekema B.K.H.L., Brandenburg R., Bruggeman P.J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2013. V. 46. P. 175203. doi: 10.1088/0022-3727/46/17/175203
- Coddington J.W., Hurst J.K., Lymar S.V. // J. Am. Chem. Soc. 1999. V. 121. P. 2438. doi: 10.1021/ja982887t
- Exner M., Herrmann H., Zellner R. // Ber. Bunsenges. Phys. Chem. 1992. V. 96. P. 470. doi: 10.1002/bbpc.19920960347
- Barzaghi P., Herrmann H. // Phys. Chem. Chem. Phys. 2002. V. 4. P. 3669. doi: 10.1039/B201652D
- Rudich Y., Talukdar R.K., Ravishankara A.R., Fox R.W. // J. Geophys. Res. 1996. V. 101. P. 21023. doi: 10.1029/96JD01844
- Shigeo D., Fumiyoshi T., Tsuneo W. // JPN J. Appl. Phys. 2000. V. 39. P. 4914. doi: 10.1143/JJAP.39.4914
- Zhang J., Chen J., Li X. // J. Water Resour. Prot. 2009. V. 1. P. 99. doi: 10.4236/jwarp.2009.12014
- Rumbach P., Bartels D.M., Sankaran R.M., Go D.B. // Nat. Comm. 2015. V. 6. P. 7248. doi: 10.1038/ncomms8248
- Bielski B.H.J., Cabelli D.E., Arudi R.L. // J. Phys. Chem. Ref. Data. 1985. V. 14. P. 1041. doi: 10.1063/1.555739
- Knipping E.M., Dabdub D. // J. Geophys. Res. Atmos. 2002. V. 107. P. 4360. doi: 10.1029/2001JD000867
- Barat F., Gilles L., Hickel B., Lesigne B. // J. Phys. Chem. 1971. V. 75. P. 2177. doi: 10.1021/j100683a019
- Anbar M., Taube H. // J. Am. Chem. Soc. 1954. V. 76. P. 6243. doi: 10.1021/ja01653a007
- Loegager T., Sehested K. // J. Phys. Chem. 1993. V. 97. P. 6664. doi: 10.1021/j100141a025
- Benderskii V.A., Krivenko A., Ponomarev E., Fedorovich N. // Elektrokhimiya. 1987. V. 23. P. 1435.
- Elliot A.J., McCracken D.R., Buxton G.V., Wood N.D. // J. Chem. Soc. Farad. Trans. 1990. V. 86. P.1539. doi: 10.1039/FT9908601539
- Goldstein S., Lind J., Merenyi G. // Chem. Rev. 2005. V. 105. P. 2457. doi: 10.1021/cr0307087
- Merenyi G., Lind J., Czapski G., Goldstein S. // Inorg. Chem. 2003. V. 42.P. 3796. doi: 10.1021/ic025698r
- Buxton G.V., Greenstock C.L., Helman W.P., Ross A.B. // J. Phys. Chem. Ref. Data. 1988. V. 17. P. 513. doi: 10.1063/1.555805
- Gear C.W. // Math. Comput. 1973. V. 27. P. 673. doi: 10.2307/2005674
- Соколов А.Н. // Научно-технический вестник информационных технологий, механики и оптики. 2012. № 2. С. 88.
- Bobkova E.S., Rybkin V.V. // Plasma Chem. Plasma Process. 2015. V. 35. P. 133. doi: 10.1007/s11090-014-9583-8
- Malik M.A. // Plasma Chem. Plasma Process. 2010. V. 30. N 1. P. 21. doi: 10.1007/s11090-009-9202-2
- Радциг А.А., Смирнов Б.М. Справочник по атомной и молекулярной физике. М.: Атомиздат, 1980. 240 с.
Дополнительные файлы
